實驗設施

本實驗室100兆瓦超短脈衝雷射系統，以鈦藍寶石(Ti:sapphire)為增益介質，能夠輸出能量3.3焦耳之飛秒近紅外光脈衝，整套系統包含三條平行的光束線，其脈衝能量、時寬、偏振甚至波長都可以獨立調整。其主要規格請見研究設施。

配合此雷射系統，我們共建置4個實驗站，配備有完整的真空系統 (真空度 ~10⁻⁶ torr) 與實驗控制設備，包含電動控制鏡架、電動控制平移台與旋轉台、快速數位示波器 (1-GHz bandwidth)、通用型高解析度 CCD 攝影機 (16-bit resolution)、自製 EUV/soft x-ray 光譜儀、雷射功率計、資料擷取系統等，能夠進行固體靶材或是氣體靶材之雷射電漿交互作用實驗。其配置如下：

1. 第一實驗站：
   真空腔體大小：49 inch (長) × 30 inch (寬) × 19 inch (高)
   靶材種類：氣體靶
   可進行之實驗：高階諧波產生(high-harmonic generation)、EUV/soft x-ray光源之發展與應用。
2. 第二實驗站：
   真空腔體大小：65 inch (長) × 40 inch (寬) × 19 inch (高)
   靶材種類：氣體靶
   可進行之實驗：雷射驅動電漿波電子加速(laser wakefield electron acceleration)、x-ray自由電子雷射、中遠紅外光與兆赫波光源之發展與應用。
3. 第三實驗站：
   真空腔體大小：65 inch (長) × 40 inch (寬) × 19 inch (高)
   靶材種類：氣體靶
   可進行之實驗：雷射驅動電漿波電子加速(laser wakefield electron acceleration)、gamma ray 瞬間攝影、電子束探測電漿波。
4. 第四實驗站：
   真空腔體大小：65 inch (長) × 40 inch (寬) × 19 inch (高)
   靶材種類：氣體靶、固體靶
   可進行之實驗：實驗室天文學實驗、以光壓加速質子、固體靶相關實驗。

對於不需要進入真空的實驗，例如超快脈衝雷射加工、超快非線性光學、脈衝波形測量與控制技術，本實驗室提供一張 5 foot × 6 foot 光學桌，做為實驗架設之空間。對於申請使用雷射之團隊，我們將依其需求安排適當之位置進行實驗。